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當前位置:首頁技術(shù)文章摩方精密推進超材料研發(fā)進程

摩方精密推進超材料研發(fā)進程

更新時間:2024-05-27點擊次數(shù):646


清華大學(xué)李曉雁教授課題組采用面投影微立體光刻設(shè)備(microArch® S240,精度:10 μm)制備了特征尺寸在幾十至幾百微米量級的多種桁架、平板和曲殼微米點陣材料。

該團隊通過原位壓縮力學(xué)測試研究并對比了多種不同結(jié)構(gòu)的微米點陣材料的變形特點和力學(xué)性能。該研究表明,基于極小曲面的點陣材料能夠表現(xiàn)出比傳統(tǒng)的桁架點陣材料更為優(yōu)異的力學(xué)性能,同時其光滑、連續(xù)、無自相交區(qū)域的特點使得其在構(gòu)筑結(jié)構(gòu)功能一體化的微納米材料方面具有重要的應(yīng)用前景。


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